Dummy Die / Wafer 工程样品/工程芯片 定制加工
Dummy Die/wafer为无电路功能的裸芯片/晶圆,可以一比一复制正式芯片的表面图形及金属层和材质,以低成本的方式替代正式芯片,实现工程样品测试,工艺参数摸索,快速提升制程良率、稳定工艺。
常用于芯片制造与封装流程的加工参数验证及工程可靠性测试。
我司可以提供Dummy Die / Wafer的定制及代加工服务,可以支持各种芯片厚度及尺寸正面金属工艺、背面研磨工艺、背面金属工艺、切割分选等不同工艺的全方位定制

定制Dummy Die / Wafer / 玻璃基板
- 正面金属工艺:可依据客户图纸定制正面的图形、RDL层数以及Bump的类型。
- 晶圆尺寸wafer size:4~12寸
- 晶圆厚度wafer thickness:≥75um
- 芯片尺寸:≥0.2*0.2mm
- 背面研磨工艺:最低可研磨至50um
- 背面金属工艺:
- 金属层类别:Cu/Ag/Ti/Ni
- 金属层厚度:镀铜(MAX厚度:10um)/镀银(MAX厚度:20um)s
- 晶圆切割:可以选择刀切或激光切割
- 激光切割精度:±2um
- 刀片切割精度:±5um
- 分选包装:可以选择wafer to wafer转蓝膜、wafer to tape reel转编带、wafer to tray转华夫盒等不同包装方式
- 玻璃基板工艺:
- TGV+铜填充:孔径40~80um,深径比≤10:1
- 表面金属布线:CD≥10±3um
- 焊盘直径:≥10um
- 最大基板尺寸:510*510mm
- 详细内容可定制咨询
现有Dummy Die
| 序号 | die size (mm) | Pad (mm) | Bump(um) | 背金(um) | 分选包装 |
| 1 | 5.5*2.5 | Cu, 3*1 | / | / | 编带 |
| 2 | 2.2*3 | Cu, 1*1 | / | / | 编带 |
| 3 | 5.5*6.5 | Cu, 3*4 | / | Ag, 2 | 编带 |
| 4 | 5.5*6.5 | Cu, 3*4 | / | Cu, 10 | 编带 |
| 5 | 1.25*1.83 | / | Cu bump 100, pitch 250 | / | 编带、蓝膜均可 |
| 6 | 1.1*0.6 | / | / | / | 编带、蓝膜均可 |
| 7 | 0201 | / | / | / | 编带、蓝膜均可 |
| 8 | 0402 | / | / | / | 编带、蓝膜均可 |
| 9 | 0603 | / | / | / | 编带、蓝膜均可 |
| 10 | 1005 | / | / | / | 编带、蓝膜均可 |
具体需求欢迎咨询定制。

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